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半導體廢氣治理的相關概念
來源: | 作者:cqwlyhb | 發布時間: 88天前 | 170 次瀏覽 | 分享到:
目前,半導體廢氣治理一般采用吸附法、焚燒法或兩者結合的方法。吸附是利用多孔固體吸附劑對含有一種或多種組分吸附在固體表面的混合氣體進行處理,達到分離的目的。

      半導體廢氣治理是指工業生產中產生的半導體廢氣進入除塵系統對半導體廢氣進行處理,去除固體顆粒后再進入半導體廢氣裝置。在半導體廢氣裝置中,半導體廢氣中的臭味成分在專門培養的微生物作用下被降解凈化,經除臭后排入大氣。生物法是通過微生物和生物過濾技術對惡臭廢氣進行處理和降解,對廢氣中的無機物、揮發性有機物等污染物進行生物降解,終轉化為無毒無害的CO2和H2O,達到凈化的目的。

      半導體工業具有排氣量大、排放濃度低的特點。VOCs主要來源于光刻、顯影、刻蝕和擴散過程。在這些過程中,有機溶劑(如異丙醇)被用來清潔晶圓表面,而VOCs是VOCs的來源之一;同時,光刻和蝕刻過程中使用的光刻膠中含有揮發性有機溶劑,如乙酸丁酯,在晶圓加工過程中也會揮發到大氣中,這是有機廢氣的另一個來源。與半導體制造工藝相比,半導體廢氣治理工藝產生的有機廢氣相對簡單,主要是封裝后粘粒、烘烤過程產生的烘烤廢氣。

      目前,半導體廢氣治理一般采用吸附法、焚燒法或兩者結合的方法。吸附是利用多孔固體吸附劑對含有一種或多種組分吸附在固體表面的混合氣體進行處理,達到分離的目的。該吸附劑選擇性高,能將難以與其它工藝分離的混合物分離,能有效去除或回收低濃度的有害物質,凈化效率高,設備簡單,操作方便,可實現自動控制。

      半導體制造過程中產生的酸堿廢氣分別收集處理,但處理設備和原理基本相同。對于含有酸堿物質的廢氣,大多數半導體廠采用大型洗滌式中央廢氣處理系統進行處理。由于半導體制造工作區距離中央廢氣處理系統較遠,一些酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前,往往會在管道中結晶或積灰,造成管道堵塞后漏氣,甚至發生爆炸,危害現場作業人員安全生產的。


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